光刻机是干什么用的?
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光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。
扩展资料
2019年与2020年在半导体领域,尤其是企业之间,光刻机是被炒得最热的一个话题,再怎么说芯片,最终都会说到光刻机上面去。
可能出口给我们DUV光刻机生产7nm的芯片,却将最先进的EUV光刻机出口给别的企业生产5nm芯片,即使不专门生产芯片的谷歌、高通,ASML也卖他们EUV光刻机。
参考资料:百度百科-光刻机
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