Question

真空蒸发镀膜和溅射镀膜的比较

Answer 1

问：真空蒸发镀膜和溅射镀膜的比较

答：溅射镀膜： 溅射镀膜是使用荷能离子轰击靶材，使靶材表面的原子逸出，然后沉积在靶材附近的固体表面形成薄膜。与蒸发镀膜不同，溅射镀膜利用的是辉光放电，并可以通过不同的方式进行。 溅射技术与真空蒸发技术的主要区别在于： 1. “溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。 2. 用于轰击靶的溅射粒子可以是电子、离子或中性粒子，其中离子在电场下易于加速获得所需动能，因此大部分采用离子作为轰击粒子。 3. 溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。 4. 溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，具有许多优点，如溅射可以用于任何物质，特别是高熔点、低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂，需要高压装置。