Question

真空蒸镀与真空溅镀，离子镀之间的区别是什么

Answer 1

问：真空蒸镀与真空溅镀，离子镀之间的区别是什么

答：您好，为您查询到了： 1、真空蒸镀 * 真空性蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，通过一定的加热蒸发方式将镀膜材料(或称膜料)蒸发和气化，将颗粒飞散到衬底表面，形成薄膜。 * 优点 + 工艺简便 + 纯度高 + 通过掩膜易于形成所需要的图形 * 缺点 + 蒸镀化合物时由于热分解现象难以控制组分比 + 低蒸气压物质难以成膜 2、溅射镀膜 * 溅射镀膜是指在充满惰性气体(如Argon)的空间内，通过施加高压向材料(目标)放电，将氧化铝电击成原子，与目标碰撞，使目标原子脱落，粘附在基板上形成薄膜的过程。 * 优点 + 溅射附着性能好 + 易于保持化合物、合金的组分比 * 缺点 + 需要溅射靶，靶材需要精制，而且利用率低 + 不便于采用掩膜沉积 3、离子镀 * 离子镀是在真空环境中，利用高压气体放电将镀料蒸发后离子化，沉积在产品表面形成镀膜的过程。 * 采用离子镀工艺后，镀层质量很好，镀层组织致密，不会产生针孔、气泡等常规镀层，产品表面厚薄均匀，甚至可在有凹槽或菱角的不规则产品表面上离子镀膜。 * 优点 + 离子附着性能好 + 化合物、合金、非金属均可成膜 * 缺点 + 装置及操作均较复杂 + 不便于采用掩膜沉积 希望能帮助到您