Question

真空蒸镀与真空溅镀，离子镀之间的区别是什么

Answer 1

问：真空蒸镀与真空溅镀，离子镀之间的区别是什么

答：您好，很高兴为您解答问题，您好，为您查询到了1、真空蒸镀真空性蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，通过一定的加热蒸发方式将镀膜材料(或称膜料)蒸发和气化，将颗粒飞散到衬底表面，形成薄膜。优点工艺简便，纯度高，通过掩膜易于形成所需要的图形缺点蒸镀化合物时由于热分解现象难以控制组分比，低蒸气压物质难以成膜2、溅射镀膜溅射镀膜是指在充满惰性气体(如Argon)的空间内，通过施加高压向材料(目标)放电，将氧化铝电击成原子，与目标碰撞，使目标原子脱落，粘附在基板上形成薄膜的过程。优点溅射附着性能好，易于保持化合物、合金的组分比缺点需要溅射靶，靶材需要精制，而且利用率低，不便于采用掩膜沉积3、离子镀离子镀是在真空环境中，利用高压气体放电将镀料蒸发后离子化，沉积在产品表面形成镀膜的过程。采用离子镀工艺后，镀层质量很好，镀层组织致密，不会产生针孔、气泡等常规镀层，产品表面厚薄均匀，甚至可在有凹槽或菱角的不规则产品表面上离子镀膜。优点离子附着性能好，化合物、合金、非金属均可成膜缺点装置及操作均较复杂，不便于采用掩膜沉积，希望答案能帮助到您，祝您生活愉快！