下列叙述及对应的离子方程式正确的是(  )A.用Cu除去CuCl2溶液中少量的FeCl3杂质:Cu+2Fe3+═Cu2++2F

下列叙述及对应的离子方程式正确的是()A.用Cu除去CuCl2溶液中少量的FeCl3杂质:Cu+2Fe3+═Cu2++2Fe2+B.工业上用NO2与水反应制取NO:3NO... 下列叙述及对应的离子方程式正确的是(  )A.用Cu除去CuCl2溶液中少量的FeCl3杂质:Cu+2Fe3+═Cu2++2Fe2+B.工业上用NO2与水反应制取NO:3NO2+H2O═NO3-+NO+2H+C.用氢氧化钠溶液除去铝表面的氧化膜:Al2O3+2OH-═2AlO2-+H2OD.向NaAlO2溶液中通入过量CO2制Al(OH)3:2AlO2-+CO2+3H2O═2Al(OH)3↓+CO32- 展开
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血刺江湖丶偟x
2014-10-22 · 超过59用户采纳过TA的回答
知道答主
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A、一般除去CuCl2溶液中少量的FeCl3杂质,采用加入CuO,Cu(OH)2,CuCO3等,调节PH除去Fe3+,因为Fe3+开始沉淀时的PH比Cu2+的小,故A错误;
B、工业制取一氧化氮是利用氨气催化氧化制备一氧化氮(硝酸工业的第一步反应):4NH3+5O2
催化剂
.
4NO+6H2O,故B错误;
C、氧化铝能够和氢氧化钠溶液反应,方程式为Al2O3+2OH-═2AlO2-+H2O,故C正确;
D、二氧化碳过量,生成了碳酸氢钠,正确离子方程式为:AlO2-+CO2+2H2O═Al(OH)3↓+HCO3-,故D错误;
故选C.
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