MOS管的源极和漏极有什么区别
一、指代不同
1、源极:简称场效应管。T仅是由多数载流子参与导电,与双极型相反,也称为单极型晶体管。
2、漏极:利用外部电路的驱动能力,减少IC内部的驱动, 或驱动比芯片电源电压高的负载。
二、原理不同
1、源极:在一块N型半导体材料的两边各扩散一个高杂质浓度的P型区(用P+表示),就形成两个不对称的P+N结。把两个P+区并联在一起,引出一个电极,称为栅极(g),在N型半导体的两端各引出一个电极。
2、漏极:将两个P区的引出线连在一起作为一个电极,称为栅极,在N型硅片两端各引出一个电极。
扩展资料:
源极结构原理
在一块P型半导体的两边各扩散一个高杂质浓度的N+区,就可以制成一个P沟道的结型场效应管。上图给出了这种管子的结构示意图和它在电路中的代表符号。由结型场效应管代表符号中栅极上的箭头方向,可以确认沟道的类型。
漏极结构原理
一般的晶体管是由两种极性的载流子,即多数载流子和反极性的少数载流子参与导电,因此称为双极型晶体管,而FET仅是由多数载流子参与导电,它与双极型相反,也称为单极型晶体管。
它属于电压控制型半导体器件,具有输入电阻高(108~109Ω)、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点,现已成为双极型晶体管和功率晶体管的强大竞争者。
参考资料来源:百度百科-源极
参考资料来源:百度百科-漏极
2023-06-12 广告
一、指代不同
1、源极:简称场效应管。T仅是由多数载流子参与导电,与双极型相反,也称为单极型晶体管。
2、漏极:利用外部电路的驱动能力,减少IC内部的驱动, 或驱动比芯片电源电压高的负载。
二、原理不同
1、源极:在一块N型半导体材料的两边各扩散一个高杂质浓度的P型区(用P+表示),就形成两个不对称的P+N结。把两个P+区并联在一起,引出一个电极,称为栅极(g),在N型半导体的两端各引出一个电极。
2、漏极:将两个P区的引出线连在一起作为一个电极,称为栅极,在N型硅片两端各引出一个电极。
三、特点不同
1、源极:属于电压控制型半导体器件,具有输入电阻高(108~109Ω)、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点
2、漏极:可以将多个开漏输出的Pin,连接到一条线上。通过一只上拉电阻,在不增加任何器件的情况下,形成“与逻辑”关系。这也是I2C,SMBus等总线判断总线占用状态的原理。
参考资料来源:百度百科-漏极
参考资料来源:百度百科-源极
2018-06-26 · 知道合伙人教育行家
2、mos管是金属(metal)—氧化物(oxid)—半导体(semiconductor)场效应晶体管,或者称是金属—绝缘体(insulator)—半导体。MOS管的source和drain是可以对调的,他们都是在P型backgate中形成的N型区。在多数情况下,这个两个区是一样的,即使两端对调也不会影响器件的性能。这样的器件被认为是对称的。