碱式碳酸铜[Cu2(OH)2C03]是一种用途广泛的化工原料.工业上可用电子工业中刻蚀线路板的酸性废液(主要
碱式碳酸铜[Cu2(OH)2C03]是一种用途广泛的化工原料.工业上可用电子工业中刻蚀线路板的酸性废液(主要成分有FeCl3、CuCl2、FeCl2)制备,其制备过程如图...
碱式碳酸铜[Cu2(OH)2C03]是一种用途广泛的化工原料.工业上可用电子工业中刻蚀线路板的酸性废液(主要成分有FeCl3、CuCl2、FeCl2)制备,其制备过程如图:查阅资料知,通过调节溶液的酸碱性可使Cu2+、Fe2+、Fe3+生成沉淀的pH如下:物质Cu(OH)2Fe(OH)2Fe(OH)3开始沉淀pH6.07.51,4沉淀完全pH13143.7(1)氯酸钠的作用是______;(2)调节溶液A的pH范围为______,可以选择的试剂是______.(填序号).a.氨水 b.硫酸铜 c.氢氧化铜 d.碳酸铜(3)反应B的温度要控制在60℃左右,且保持恒温,可采用的加热方法是______.(4)已知滤液中含有碳酸氢钠,写出生成碱式碳酸铜的离子方程式:______.(5)过滤得到的产品洗涤时,如何判断产品已经洗净______.
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由流程图可知:刻蚀废液加入NaClO3把Fe2+氧化为Fe3+,调节pH除掉铁离子,滤渣为Fe(OH)3,向CuCl2溶液中加入碳酸钠固体,过滤得到碱式碳酸铜.
(1)酸性刻蚀废液(主要成分有Cu2+、Fe2+、Fe3+、H +、Cl-)制备碱式碳酸铜,需除去杂质离子,而亚铁离子形成沉淀比铜离子还难,故需把亚铁离子转化为铁离子,加入氯酸钠的作用是氧化亚铁离子为铁离子,调节溶液pH易于把铁离子沉淀除去,故答案为:将Fe2+氧化成Fe3+;
(2)调节pH使得铁离子沉淀完全,铁离子沉淀完全pH为3.7,铜离子开始沉淀pH为6.0,故应控制pH为3.7-6.0,使铁离子沉淀完全而铜离子不沉淀;
氨水会引入杂质离子,硫酸铜不能使溶液pH升高,氢氧化铜和碳酸铜能和氢离子反应,能调节pH,且不会引入杂质,可用作调节pH的试剂;
故答案为:3.7-6.0;cd;
(3)反应B的温度要控制在60℃左右,且保持恒温,可采用水浴加热的方法,便于控制温度;
故答案为:水浴加热;
(4)根据题给信息,铜离子和碳酸根离子反应生成碱式碳酸铜和碳酸氢根离子,反应的离子方程式为:2Cu2++3CO32-+2H2O=Cu2(OH)2C03↓+2HCO3-,
故答案为:2Cu2++3CO32-+2H2O=Cu2(OH)2C03↓+2HCO3-;
(5)沉淀表面会含有氯化钠溶液,设计实验检验是否含有氯离子的方法可以检验是否洗涤干净,实验设计为:取最后一次洗涤液,加入硝酸银、稀硝酸,无沉淀生成则表明已洗涤干净,故答案为:取最后一次洗涤液,加入硝酸银、稀硝酸,无沉淀生成则表明已洗涤干净.
(1)酸性刻蚀废液(主要成分有Cu2+、Fe2+、Fe3+、H +、Cl-)制备碱式碳酸铜,需除去杂质离子,而亚铁离子形成沉淀比铜离子还难,故需把亚铁离子转化为铁离子,加入氯酸钠的作用是氧化亚铁离子为铁离子,调节溶液pH易于把铁离子沉淀除去,故答案为:将Fe2+氧化成Fe3+;
(2)调节pH使得铁离子沉淀完全,铁离子沉淀完全pH为3.7,铜离子开始沉淀pH为6.0,故应控制pH为3.7-6.0,使铁离子沉淀完全而铜离子不沉淀;
氨水会引入杂质离子,硫酸铜不能使溶液pH升高,氢氧化铜和碳酸铜能和氢离子反应,能调节pH,且不会引入杂质,可用作调节pH的试剂;
故答案为:3.7-6.0;cd;
(3)反应B的温度要控制在60℃左右,且保持恒温,可采用水浴加热的方法,便于控制温度;
故答案为:水浴加热;
(4)根据题给信息,铜离子和碳酸根离子反应生成碱式碳酸铜和碳酸氢根离子,反应的离子方程式为:2Cu2++3CO32-+2H2O=Cu2(OH)2C03↓+2HCO3-,
故答案为:2Cu2++3CO32-+2H2O=Cu2(OH)2C03↓+2HCO3-;
(5)沉淀表面会含有氯化钠溶液,设计实验检验是否含有氯离子的方法可以检验是否洗涤干净,实验设计为:取最后一次洗涤液,加入硝酸银、稀硝酸,无沉淀生成则表明已洗涤干净,故答案为:取最后一次洗涤液,加入硝酸银、稀硝酸,无沉淀生成则表明已洗涤干净.
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