请帮忙填空
请帮忙填空1.三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF,该反应中氧化剂是__...
请帮忙填空1.三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF,该反应中氧化剂是__________,还原剂是________,氧化产物是__________,还原产物是________,还原剂和氧化剂的物质的量之比是________。
展开
推荐律师服务:
若未解决您的问题,请您详细描述您的问题,通过百度律临进行免费专业咨询