
请帮忙填空
请帮忙填空1.三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF,该反应中氧化剂是__...
请帮忙填空1.三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF,该反应中氧化剂是__________,还原剂是________,氧化产物是__________,还原产物是________,还原剂和氧化剂的物质的量之比是________。
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氧化剂是NF3,还原剂是NF3,氧化产物是HNO3,还原产物是NO,还原剂和氧化剂的物质的量之比是1:2。
追问
还原剂和氧化剂一样
追答
对的,因为水的H和O都没有得电子和失电子,一部分N被氧化成硝酸,一部分被还原成一氧化氮。
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