下列除杂质的操作方法正确的是（ ）A．二氧化硅中有少量的氧化铝：加过量的烧碱溶液后过滤B．NH4Cl中
下列除杂质的操作方法正确的是（）A．二氧化硅中有少量的氧化铝：加过量的烧碱溶液后过滤B．NH4Cl中有少量的I2：通过加热的方法C．Na2CO3溶液（Na2SO4）：加入...
下列除杂质的操作方法正确的是（ ）A．二氧化硅中有少量的氧化铝：加过量的烧碱溶液后过滤B．NH4Cl中有少量的I2：通过加热的方法C．Na2CO3溶液（Na2SO4）：加入适量Ba（OH）2溶液，过滤D．CO2气体（HCl）：通过饱和NaHCO3溶液后干燥
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A、二氧化硅和氧化铝都和氢氧化钠溶液发生反应溶解，不能除杂，故A错误；
B、氯化铵加热分解生成的氯化氢和氨气重新生成氯化铵，碘单质易升华，加热升华，遇冷凝结，不能分离混合物，故B错误；
C、溶液中加入氢氧化钡溶液硫酸根离子和碳酸根离子都会生成沉淀，不能实现除杂的目的，故C错误；
D、二氧化碳气体中的氯化氢通过饱和碳酸氢钠溶液可以除去，同时降低了二氧化碳气体的溶解性，故D正确；
故选D．
B、氯化铵加热分解生成的氯化氢和氨气重新生成氯化铵，碘单质易升华，加热升华，遇冷凝结，不能分离混合物，故B错误；
C、溶液中加入氢氧化钡溶液硫酸根离子和碳酸根离子都会生成沉淀，不能实现除杂的目的，故C错误；
D、二氧化碳气体中的氯化氢通过饱和碳酸氢钠溶液可以除去，同时降低了二氧化碳气体的溶解性，故D正确；
故选D．
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