求助分子模拟软件material studio
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2016-08-02
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·MS.PolymorphPredictorPolymorph是一个算法集,目的是测定晶体的低能多晶型。此方法可以与实验衍射数据相关联或者仅仅使用材料的化学结构来实现此目的。晶体的多晶型可能会导致不同的性质,因此判断哪种晶型更加稳定或者接近稳定态势非常重要的。在处理过程中微小的改变都会导致稳定性的大幅度变化。Polymorph中的相似性挑选和聚类算法允许用户将相似模型归类,从而节省计算时间。·MS.Morphology从晶体的原子结构来模拟晶体形貌。可以预测晶体外形,研发特殊效果的掺杂成分,控制溶剂和杂质的效应。·MS.X-Cell已申请专利的X-Cell是一种全新、高效、综合、易用的指标化算法,它使用消光决定(extinction-specific)的二分法方法对参数空间进行详尽无遗的搜索,最终给出可能的晶胞参数的完整清单。在许多情况下显示出比DICVOL、TREOR和ITO更高的成功率。X-Cell可以很好的处理粉末衍射指标化中的许多难点,如样品含有杂质相、峰位重叠、零点偏移、极端形状的晶胞等。·MS.Reflex模拟晶体材料的X光、中子以及电子等多种粉末衍射图谱。可以帮助确定晶体的结构,解析衍射数据并用于验证计算和实验结果。模拟的谱图可以直接与实验数据比较,并能根据结构的改变进行即时的更新。粉末衍射指标化算法包括:TREOR90,DICVOL91,ITOandX-cell。结构精修工具包括Rietveld精修和Pawley精修。。·MS.ReflexPlus在Reflex标准功能的基础上加入已被广泛验证的PowderSolve技术,提供了一套可以从高质量的粉末衍射数据确定晶体结构的完整工具。包括粉末指标化、Pawley精修、解结构以及Rietveld精修。结构的全局搜索过程可以选用MonteCarlo模拟退火和MonteCarlo并行回火两种算法之一,求解过程中同时考虑到了优先取向的影响。·MS.ReflexQPA利用粉末衍射数据及Rietveld方法进行定量相分析的强大工具,可以通过多相样品的粉末衍射图判定不同组成成分相对比例的。用于化学品或医药工业中有机或无机材料组成成分的确定。量子力学·MS.DMol3独特的密度泛函(DFT)量子力学程序,是唯一可以模拟气相、溶液、表面及固体等过程及性质的商业化量子力学程序,应用于化学、材料、化工、固体物理等许多领域。可用于研究均相催化、多相催化、半导体、分子反应等,也可预测诸如溶解度、蒸气压、配分函数、溶解热、混合热等性质。可计算能带结构、态密度。基于内坐标的算法强健高效,支持并行计算。MS4.0版本中加入了更方便的自旋极化设置,可用于计算磁性体系。4.0版本起还可以进行动力学计算。·MS.CASTEP先进的量子力学程序,广泛应用于陶瓷、半导体以及金属等多种材料。可研究:晶体材料的性质(半导体、陶瓷、金属、分子筛等)、表面和表面重构的性质、表面化学、电子结构(能带及态密度、声子谱)、晶体的光学性质、点缺陷性质(如空位、间隙或取代掺杂)、扩展缺陷(晶粒间界、位错)、成分无序等。可显示体系的三维电荷密度及波函数、模拟STM图像、计算电荷差分密度。MS4.0版本中加入了更方便的自旋极化设置,可用于计算磁性体系。4.0版本起还可以计算固体材料的红外光谱。·MS.NMRCASTEP通过第一原理DFT理论预测NMR化学位移和电场梯度张量。方法适于计算包括有机分子、陶瓷和半导体在内的众多类型材料的分子、固体、表面的NMR位移。·MS.VAMP半经验的分子轨道程序,适用于有机和无机的分子体系。可快速计算分子的多种物理和化学性质,其计算的速度和精度介于基于力场的分子力学方法和量子力学的第一原理方法。快速的VAMP程序可以为DFT程序提供了良好的初始结构以便进行精确的结构优化。经DFT优化好的结构可以用VAMP来计算各种性质和光谱。VAMP还可以向分子动力学模拟提供参数。MS4.0版本引入了ZINDO哈密尔敦函数,可计算包含过渡金属的有机金属体系的紫外光谱。
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