薄膜晶体管的工作原理是什么?
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TFT器件主要有a-Si(非晶硅)和p-Si(多晶硅)两种,其中,p-Si处于起步和发展阶段,a-Si则应用比较广泛。TFT器件工作时,像一个电压控制的取向开关,当栅极G不施加电压时,TFT器件处于截止状态(关断状态),即源极S与漏极D不能接通,此时栅极G与源极S(或漏极D)之间的电阻称为关断电阻ROFF。由于栅极的漏电流极小或没有,所以,ROFF非常高,一般在107赘以上。当在栅极G上施加一个大于其导通电压的正电压时,由于电场的作用,TFT器件将处于导通状态,即源极S与漏极D接通,此时源极S与漏极D之间的电阻称为导通电阻RON,它随栅极电压的增加而减小。对于TFT器件,其源极S和漏极D的特性一样,功能可以互换,源极S和漏极D之间电流的方向随它们之间电场方向的变化而变化。源极和漏极是在应用电路中被定义的,一般将输入信号端称为源极S,将输出信号端称为漏极D。在TFT液晶显示屏中,一般将接数据驱动器端接TFT器件的源极S,像素端接TFT器件的漏极D。
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