工业制硅的化学方程式是什么?
创远信科
2024-07-24 广告
2024-07-24 广告
介电常数,简称ε,是衡量材料在电场中电介质性能的重要物理量。它描述了材料对电场的响应能力,定义为电位移D与电场强度E之比,即ε=D/E。介电常数越大,材料在电场中的极化程度越高,存储电荷能力越强。在电子和电气工程领域,介电常数对于理解和设计...
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一般情况下工业制硅的化学方程式有下面这几条:
1、2C+SiO2==高温==2CO+Si(得到粗硅)。
2、Si+2Cl2==SiCl4。
3、2H2+SiCl4==高温==Si+4HCl(得到精硅)。
工业上生产硅是在电弧炉中还原硅石(SiO2含量大于99%)。使用的还原剂为石油焦和木炭等。使用直流电弧炉时,能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低(0.3%~0.8%),采用质量高的硅石(SiO2大于99%),可直接炼出制造硅钢片用的高质量硅。
应用领域:
在单晶硅中掺入微量的第IIIA族元素,形成p型硅半导体;掺入微量的第VA族元素,形成n型半导体。p型半导体和n型半导体结合在一起形成p-n结,就可做成太阳能电池,将辐射能转变为电能。
2、金属陶瓷、宇宙航行的重要材料。
将陶瓷和金属混合烧结,制成金属陶瓷复合材料,它耐高温,富韧性,可以切割,既继承了金属和陶瓷的各自的优点,又弥补了两者的先天缺陷。可应用于军事武器的制造。
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工业制备硅的一个常见方法是通过高温还原二氧化硅(SiO2),其化学方程式如下:
SiO2(s) + 2C(s) -> Si(s) + 2CO(g)
在这个反应中,固态的二氧化硅和固态的碳反应,生成固态的硅和一氧化碳气体。
这个反应发生在高温条件下,通常在电弧炉或石墨电炉中进行。碳用作还原剂,引发了二氧化硅的化学分解,将硅从氧中解放出来。生成的一氧化碳气体则随着反应进行逸出。
这个反应是工业上生产硅的主要方法之一,被广泛应用于硅材料的制备,包括用于集成电路和太阳能电池等应用中。
SiO2(s) + 2C(s) -> Si(s) + 2CO(g)
在这个反应中,固态的二氧化硅和固态的碳反应,生成固态的硅和一氧化碳气体。
这个反应发生在高温条件下,通常在电弧炉或石墨电炉中进行。碳用作还原剂,引发了二氧化硅的化学分解,将硅从氧中解放出来。生成的一氧化碳气体则随着反应进行逸出。
这个反应是工业上生产硅的主要方法之一,被广泛应用于硅材料的制备,包括用于集成电路和太阳能电池等应用中。
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工业制硅的化学方程式是什么?工业制硅的化学方程式可以分为两个主要步骤:还原炼硅和电解炼硅。
还原炼硅: 硅石(二氧化硅)经过还原反应,得到纯硅。 化学方程式:SiO2 + 2C → Si + 2CO
电解炼硅: 纯硅通过电解过程,得到高纯度的硅。 化学方程式:Si + 2HF → SiF4 + 2H2 化学方程式:SiF4 + 2H2O → SiO2 + 4HF 化学方程式:SiO2 + 2C → Si + 2CO
这些化学方程式描述了工业制硅的主要反应过程。需要注意的是,工业制硅的具体工艺和反应条件可能会有所不同,上述方程式仅为一般情况下的示例。在实际生产中,还可能涉及其他辅助反应和处理步骤。
还原炼硅: 硅石(二氧化硅)经过还原反应,得到纯硅。 化学方程式:SiO2 + 2C → Si + 2CO
电解炼硅: 纯硅通过电解过程,得到高纯度的硅。 化学方程式:Si + 2HF → SiF4 + 2H2 化学方程式:SiF4 + 2H2O → SiO2 + 4HF 化学方程式:SiO2 + 2C → Si + 2CO
这些化学方程式描述了工业制硅的主要反应过程。需要注意的是,工业制硅的具体工艺和反应条件可能会有所不同,上述方程式仅为一般情况下的示例。在实际生产中,还可能涉及其他辅助反应和处理步骤。
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