蒸发镀膜顺利进行的两个条件

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蒸发镀膜顺利进行的两个条件是,蒸发过程中的真空条件和镀膜过程中的蒸发条件。

相关信息

1、真空蒸发镀膜从物料蒸发输运到沉积成膜的物理过程为,用各种能源方式转换成热能,加热膜材使之蒸发或升华,成为具有一定能量的气态粒子。离子膜材表面,具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基片表面。到达基片表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜。

2、真空条件下物质的蒸发特点。膜材加热到一定温度时就会发生气休现象,即由固相或液相进入到气相。在真空条件下物质的蒸发比在常压下容易得多,所需的蒸发温度也大幅度下降。因此熔化蒸发过程缩短,蒸发效率明显地提高。

3、在一定温度下,真空室中蒸发材料的蒸发在固相或液相分子平衡状态下所呈现在压力为饱和蒸气压。在饱和平衡状态下,分子不断地从冷凝液相或固相表面蒸发。同时有相同数量的分子与冷凝液相或固相表面相碰撞而返回到冷凝液相或固相中。

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蒸发镀膜需要在真空环境下进行,其顺利进行的两个重要条件如下:
1. 真空度: 蒸发镀膜需要在充分低的压力下进行,一般要求真空度在10^-4 Pa左右,以至于材料在蒸发过程中不受氧化或与其他气体反应影响。
2. 加热源:为了让材料蒸发成气态,需要在材料上方提供加热源,使材料达到高温,并转换成水蒸气。通常采用电子束、激光等方式对固体材料进行加热,使其逐渐蒸发成气态,符合物质沉积形成薄膜的需求。
除此之外,蒸发镀膜还需要严密的反射系统、材料供应系统和真空抽气系统来保证生产过程中的稳定性和准确性。加热源和真空状态是成功制备高质量薄膜的基本条件,也是影响薄膜质量和制备效率的关键因素。
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