(2009?南京)从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料.请回答-下列问
(2009?南京)从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料.请回答-下列问题:(1)地壳里各种元素的含量(质量分数)如右图所示,其中表示硅...
(2009?南京)从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料.请回答-下列问题:(1)地壳里各种元素的含量(质量分数)如右图所示,其中表示硅元素的是______(填字母).(2)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,则常温下硅的化学性质______(选琐“活泼”、“不活泼”).(3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意如下:①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是______.②在生产过程中物质A可循环使用,A的化学式是______;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是______.
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(1)因为硅元素在地壳里含量是第二位,故选B;
(2)利用知识迁移的方法,碳元素的化学性质较稳定,而硅元素的最外层电子数与之同,则其化学性质也应较稳定,故常温下硅的化学性质不活泼;
(3)①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是爆炸;
②在生产过程中物质A可循环使用,根据质量守恒定律的元素守恒,生成物A的化学式是HCl;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是氢气.
故答为:(1)B;(2)不活泼;(3)①爆炸;②HCl;氢气.
(2)利用知识迁移的方法,碳元素的化学性质较稳定,而硅元素的最外层电子数与之同,则其化学性质也应较稳定,故常温下硅的化学性质不活泼;
(3)①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是爆炸;
②在生产过程中物质A可循环使用,根据质量守恒定律的元素守恒,生成物A的化学式是HCl;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是氢气.
故答为:(1)B;(2)不活泼;(3)①爆炸;②HCl;氢气.
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