场效应管怎么测量好坏
可以用万用表测量场效应管的好坏。
使用万用表二极管导通档,从左至右一般都是GDS排列,量最右边管脚S到中间脚D是否正向导通,但不短路,量左边脚G与右边脚S是否相互不导通,如此则为好的N-MOS。
场效应管英文缩写为FET。可分为结型场效应管和绝缘栅型场效应管,我们平常简称为MOS管。而MOS管又可分为增强型和耗尽型,而我们平常主板中常见使用的也就是增强型的MOS管。我们主板中常用的MOS管GDS三个引脚是固定的,不管是GDSN沟道还是P沟道都一样,把芯片放正,从左到右分别为G极、D极、S极。
场效应管工作原理
场效应管工作原理用一句话说,就是“漏极-源极间流经沟道的ID,用栅极与沟道间的pn结形成的反偏的栅极电压进行控制”。更正确地说,ID流经通路的宽度,即沟道截面积,它是由pn结反偏的变化,产生耗尽层扩展变化控制的缘故。
在VGS=0的非饱和区域,表示的过渡层的扩展因为不很大,根据漏极-源极间所加VDS的电场,源极区域的某些电子被漏极拉去,即从漏极向源极有电流ID流动。从门极向漏极扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型,ID饱和。将这种状态称为夹断。这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡,并不是电流被切断。
在过渡层由于没有电子、空穴的自由移动,在理想状态下几乎具有绝缘特性,通常电流也难流动。但是此时漏极-源极间的电场,实际上是两个过渡层接触漏极与门极下部附近,由于漂移电场拉去的高速电子通过过渡层。
因漂移电场的强度几乎不变产生ID的饱和现象。其次,VGS向负的方向变化,让VGS=VGS,此时过渡层大致成为覆盖全区域的状态。而且VDS的电场大部分加到过渡层上,将电子拉向漂移方向的电场,只有靠近源极的很短部分,这更使电流不能流通。