雕刻玻璃的化学方程式
1个回答
展开全部
SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O，利用此反应，氢氟酸能雕刻玻璃。氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全解离。氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化硅），生成气态的四氟化硅。反应方程式如下：
SiO2(s)+4HF(aq)→SiF4(g)+2H2O(l)，生成的SiF4可以继续和过量的HF作用，生成氟硅酸：
SiF4(g)+2HF(aq)=H2[SiF6](aq)，氟硅酸是一种二元强酸。正因如此，它必须储存在塑料（理论上讲，放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好）、蜡质制或铅制的容器中。
SiO2(s)+4HF(aq)→SiF4(g)+2H2O(l)，生成的SiF4可以继续和过量的HF作用，生成氟硅酸：
SiF4(g)+2HF(aq)=H2[SiF6](aq)，氟硅酸是一种二元强酸。正因如此，它必须储存在塑料（理论上讲，放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好）、蜡质制或铅制的容器中。
已赞过
已踩过<
评论
收起
你对这个回答的评价是？
正成机电科技
2023-06-12 广告
水平连续电解蚀刻技术（Lateral Plane Wafer Integrated with Chemical Etching）是一种替代传统化学蚀刻技术的蚀刻技术。它通过水平方向不断进行电解蚀刻，在板面上形成垂直连续的孔洞结构，而无需传统...
点击进入详情页
本回答由正成机电科技提供
推荐律师服务：
若未解决您的问题，请您详细描述您的问题，通过百度律临进行免费专业咨询
