Question

光栅的制作过程

Answer 1

光栅通常是利用在硅片上形成高低不同、宽窄不同的台阶图形，从而对照射到其上的光线产生干涉、衍射、反射等光学作用，达到一定的光学功能。常规的光栅制造工艺是通过在硅片上生长一定厚度的介质层，然后经过多次的光刻、刻蚀，从而形成这些台阶图形。

在基底表面依次形成第一光刻胶和第二光刻胶，其中所述第二光刻胶覆盖所述第一光刻胶，且其最低显开能量小于所述第一光刻胶；采用第一掩膜板对所述第二光刻胶进行第一次曝光处理，其中所述第二光刻胶在第一掩膜区域形成第一光刻胶图形；采用第二掩膜板对所述第二光刻胶进行第二次曝光处理，其中所述第二掩膜板至少部分覆盖所述第一曝光区域，且所述第一光刻胶在第二曝光区域形成第二光刻胶图形；对所述第一光刻胶和所述第二光刻胶进行显影处理，形成具有第一光刻胶图形和第二光刻胶图形的光刻胶台阶结构。