光刻胶是什么材料起什么作用

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光刻胶是一种具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝光图形的介质。光刻胶的英文名是resist,也翻译成resist、photoresist等。光致抗蚀剂的功能是作为抗蚀刻层保护衬底表面。光致抗蚀剂只是一种图像,因为它在外观上是以胶状液体出现的。

光致抗蚀剂通常以薄膜的形式均匀地涂覆在衬底的表面上。当受到紫外光或电子束照射时,光致抗蚀剂材料本身的特性会发生变化。用显影剂显影后,曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶会残留在基底表面,从而将设计好的微纳结构转移到光刻胶上。后续的刻蚀、沉积等工艺可以进一步将这种图案转移到光刻胶下面的衬底上,最后用光刻胶去除剂去除光刻胶。

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