PVD镀膜靶材和其它镀膜方式比有哪些优势?

PVD镀膜靶材和别的方式镀膜的优势是什么?... PVD镀膜靶材和别的方式镀膜的优势是什么? 展开
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2021-08-05 · 高纯镀膜材料、溅射靶材等产品的研究、生产
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1.耐久性好与其他涂层(例如电镀)相比,PVD涂层有时更硬且更耐腐蚀.
2.广泛的应用几乎所有类型的无机涂料和某些有机涂料都可以使用多种表面处理剂,用于多种类型的基材和表面.
3.环保由于PVD涂层工艺是在真空环境中进行的,因此与其他传统涂层技术(例如电镀和喷漆)相比,它对环境更加友好.
4.方便的清洁:您可以节省(减少)清洁和抛光普通铜(金)产品的时间和成本,并且用软布或玻璃清洁剂足以清洁PVD膜.
5.高质量和多种选择:PVD膜具有多种颜色,表面细腻光滑,具有金属光泽,永不褪色.常见的颜色是金黄色(TiN),亮银(CrN),紫色(TiAlN)等.
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PVD(物理气相沉积)镀膜靶材相对于其他镀膜方式具有以下优势:
1. 高纯度:PVD镀膜靶材通常采用高纯度的金属或合金材料制备,因此可以提供较高的化学纯度和纯净度。这对于要求高纯度薄膜的应用非常重要,如光学涂层、电子器件等。
2. 高成膜率:PVD镀膜过程中,靶材通过物理蒸发或溅射方式将原子或离子沉积到基底上,因此具有较高的成膜速率。这使得PVD成为一种快速、高效的镀膜方法,尤其适用于大面积涂层和工业生产。
3. 良好的附着力:PVD镀膜靶材的沉积是通过物理过程实现的,沉积层与基底之间通常具有较好的附着力。这确保了膜层的稳定性和耐久性,使其在各种应用中具有较长的使用寿命。
4. 薄膜控制性强:PVD镀膜可以通过调节沉积参数(如靶材功率、沉积速率、沉积角度等)来控制薄膜的厚度、成分和结构。这使得PVD能够实现较高的薄膜控制性,满足不同应用对薄膜性能和结构的要求。
5. 适用性广泛:PVD镀膜靶材可以用于多种材料的镀膜,包括金属、合金、陶瓷等。它可以制备出具有特定功能的薄膜,如抗反射涂层、硬质涂层、防腐蚀涂层等,因此在光学、电子、机械和装饰等领域有广泛的应用。
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