Question

四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：SiCl4+2H2 高温 . 4HCl+Si下列

四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：SiCl4+2H2 高温 . 4HCl+Si下列说法不合理的是（　　）A．反应制得的硅可用于制造半导体材料B．增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率C．四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得D．混入少量空气对上述反应无影响

Answer 1

A．硅位于金属与非金属元素的交界处，硅具有金属性和非金属性，则反应制得的硅可用于制造半导体材料，故A正确；
B．该反应中有气体参加反应，则增大压强，化学反应速率增大，故B正确；
C．硅与氯气能发生氧化还原反应，则四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得，故C正确；
D．硅能与氧气反应生成二氧化硅，所以混入少量空气对上述反应有影响，故D错误；
故选D．