金属硅的分类分别是什么? 10
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1. 多晶硅(Polycrystalline Silicon):多晶硅是由许多小的晶体颗粒组成的硅材料。它通过将硅原料(通常是冶炼的高纯度硅)加热至液态,然后通过控制冷却速度形成多晶结构。多晶硅通常用于太阳能电池、集成电路制造等领域。
2. 单晶硅(Monocrystalline Silicon):单晶硅是由单个晶体组成的硅材料。它通常通过将硅原料(通常是高纯度硅)溶解在高温下,然后逐渐冷却形成单晶体。单晶硅具有更高的纯度和晶格完整性,因此在电子器件制造中广泛应用,如集成电路和太阳能电池。
3. 多晶硅铸锭(Multicrystalline Silicon Ingot):多晶硅铸锭是通过将熔化的硅原料倒入大型铸模中制成的。它的晶体结构由多个晶体颗粒组成,但相比于多晶硅,晶体颗粒之间的结晶边界较少。多晶硅铸锭常用于太阳能电池制造。
4. 金属有机化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,MOCVD)生长的金属硅薄膜:MOCVD是一种化学气相沉积技术,用于在基底上生长金属硅薄膜。这种金属硅薄膜通常用于半导体器件制造,如光电子器件和激光器。
2. 单晶硅(Monocrystalline Silicon):单晶硅是由单个晶体组成的硅材料。它通常通过将硅原料(通常是高纯度硅)溶解在高温下,然后逐渐冷却形成单晶体。单晶硅具有更高的纯度和晶格完整性,因此在电子器件制造中广泛应用,如集成电路和太阳能电池。
3. 多晶硅铸锭(Multicrystalline Silicon Ingot):多晶硅铸锭是通过将熔化的硅原料倒入大型铸模中制成的。它的晶体结构由多个晶体颗粒组成,但相比于多晶硅,晶体颗粒之间的结晶边界较少。多晶硅铸锭常用于太阳能电池制造。
4. 金属有机化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,MOCVD)生长的金属硅薄膜:MOCVD是一种化学气相沉积技术,用于在基底上生长金属硅薄膜。这种金属硅薄膜通常用于半导体器件制造,如光电子器件和激光器。
中科雷鸣
2024-11-08 广告
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本回答由中科雷鸣提供
2017-07-25
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2017-07-25
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铁合金现货网:金属硅的分类通常按金属硅成分所含的铁、铝、钙三种主要杂质的含量来分类。按照金属硅中铁、铝、钙的含量,可把金属硅分为553、441、411、421、3303、3305、2202、2502、1501、1101等不同的牌号。
工业上,金属硅通常是在电炉中由碳还原二氧化硅而制得。 化学反应方程式: SiO2 + 2C → Si + 2CO 这样制得的硅纯度为97~98%,叫做金属硅。再将它融化后重结晶,用酸除去杂质,得到纯度为99.7~99.8%的金属硅。
金属硅成分主要是硅,因此和硅具有相类似的性质。硅有无定形硅和晶形硅两种同素异形体。无定形硅是灰黑色粉末,实际上也是一种微晶体。晶形硅具有金刚石的晶体结构和半导体性质, 熔点 1410℃ , 沸点 2355℃ ,密度2.32~2.34克/厘米3,莫氏硬度 7,性脆 。无定形硅化学性质活泼,在氧气中能剧烈燃烧。它在高温下与卤素、氮、碳等非金属发生反应,也能与镁、钙、铁等金属作用,生成硅化物。无定形硅几乎不溶于包括氢氟酸在内的所有无机酸和有机酸,但能溶于硝酸与氢氟酸的混合酸。浓氢氧化钠溶液能溶解无定形硅,放出氢气。晶形硅比较不活泼,即使在高温下也不与氧气化合,它也不溶于任何一种无机酸和有机酸,但可溶于硝酸和氢氟酸的混合酸以及浓氢氧化钠溶液。
工业上,金属硅通常是在电炉中由碳还原二氧化硅而制得。 化学反应方程式: SiO2 + 2C → Si + 2CO 这样制得的硅纯度为97~98%,叫做金属硅。再将它融化后重结晶,用酸除去杂质,得到纯度为99.7~99.8%的金属硅。
金属硅成分主要是硅,因此和硅具有相类似的性质。硅有无定形硅和晶形硅两种同素异形体。无定形硅是灰黑色粉末,实际上也是一种微晶体。晶形硅具有金刚石的晶体结构和半导体性质, 熔点 1410℃ , 沸点 2355℃ ,密度2.32~2.34克/厘米3,莫氏硬度 7,性脆 。无定形硅化学性质活泼,在氧气中能剧烈燃烧。它在高温下与卤素、氮、碳等非金属发生反应,也能与镁、钙、铁等金属作用,生成硅化物。无定形硅几乎不溶于包括氢氟酸在内的所有无机酸和有机酸,但能溶于硝酸与氢氟酸的混合酸。浓氢氧化钠溶液能溶解无定形硅,放出氢气。晶形硅比较不活泼,即使在高温下也不与氧气化合,它也不溶于任何一种无机酸和有机酸,但可溶于硝酸和氢氟酸的混合酸以及浓氢氧化钠溶液。
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