我是一个新手，请问一下溅射镀膜和蒸发镀膜有什
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真空镀膜用真空蒸发离溅射真空蒸发镀膜真空度低于10-2Pa环境用电阻加热或电束激光轰击等要蒸发材料加热定温度使材料或原热振能量超表面束缚能使量或原蒸发或升华并直接沉淀基片形薄膜离溅射镀膜利用气体放电产离电场作用高速运轰击作阴极靶使靶材原或逸沉淀镀工件表面形所需要薄膜 真空蒸发镀膜用电阻加热其优点加热源结构简单造价低廉操作便；缺点适用于难熔金属耐高温介质材料电束加热激光加热则能克服电阻加热缺点电束加热利用聚焦电束直接轰击材料加热电束能变热能使材料蒸发激光加热利用功率激光作加热源由于功率激光器造价高目前能少数研究性实验室使用 溅射技术与真空蒸发技术所同溅射指荷能粒轰击固体表面（靶）使固体原或表面射现象射粒呈原状态称溅射原用于轰击靶溅射粒电离或性粒离电场易于加速获所需要能都采用离作轰击粒溅射程建立辉光放电基础即溅射离都源于气体放电同溅射技术所采用辉光放电式所同直流二极溅射利用直流辉光放电；三极溅射利用热阴极支持辉光放电；射频溅射利用射频辉光放电；磁控溅射利用环状磁场控制辉光放电 溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比许优点任何物质均溅射尤其高熔点低蒸气压元素化合物；溅射膜与基板间附着性；薄膜密度高；膜厚控制重复性等缺点设备比较复杂需要高压装置 外蒸发与溅射相结合即离镀种优点膜与基板间极强附着力较高沉积速率膜密度高
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