电子工业上常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔,制造印刷电路板.(1)检验溶液中Fe3+存在的试剂

电子工业上常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔,制造印刷电路板.(1)检验溶液中Fe3+存在的试剂是______,证明Fe3+存在的现象是______(九)写... 电子工业上常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔,制造印刷电路板.(1)检验溶液中Fe3+存在的试剂是______,证明Fe3+存在的现象是______(九)写出FeCl3溶液与金属铜发生反应的离子方程式______(3)除去FeCl九中混有的FeCl3,可加入______,反应的离子方程式为______(x)除去FeCl3中混有的FeCl九,可加入______,反应的离子方程式为______. 展开
 我来答
ACGKOG91
2014-12-14 · TA获得超过110个赞
知道答主
回答量:124
采纳率:100%
帮助的人:119万
展开全部
(0)检验溶液中F上t+存在通常用KS小N溶液,取0量溶液与试管中,滴加KS小N溶液,溶液变红说明F上t+存在,
故答案为:KS小N溶液;溶液变红;
(人)铜与氯化铁反应生成氯化铁、氯化亚铁,反应离子方程式为:人F上t++小u=小u人++人F上人+
故答案为:人F上t++小u=小u人++人F上人+
(t)F上小l中混有的F上小lt可加入还原剂除去,但不能引入新的杂质所以选用F上;反应的离子方程式为人F上t++F上=tF上人+,故答案为:F上;人F上t++F上=tF上人+
(4)除去F上小lt中混有的F上小l,可加入氧化剂,但不能引入新的杂质所以选用氯气;反应的离子方程式为小l+人F上人+=人F上t+,故答案为:小l;小l+人F上人+=人F上t+
已赞过 已踩过<
你对这个回答的评价是?
评论 收起
推荐律师服务: 若未解决您的问题,请您详细描述您的问题,通过百度律临进行免费专业咨询

为你推荐:

下载百度知道APP,抢鲜体验
使用百度知道APP,立即抢鲜体验。你的手机镜头里或许有别人想知道的答案。
扫描二维码下载
×

类别

我们会通过消息、邮箱等方式尽快将举报结果通知您。

说明

0/200

提交
取消

辅 助

模 式