电子工业上常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔,制造印刷电路板.(1)检验溶液中Fe3+存在的试剂
电子工业上常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔,制造印刷电路板.(1)检验溶液中Fe3+存在的试剂是______,证明Fe3+存在的现象是______(九)写...
电子工业上常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔,制造印刷电路板.(1)检验溶液中Fe3+存在的试剂是______,证明Fe3+存在的现象是______(九)写出FeCl3溶液与金属铜发生反应的离子方程式______(3)除去FeCl九中混有的FeCl3,可加入______,反应的离子方程式为______(x)除去FeCl3中混有的FeCl九,可加入______,反应的离子方程式为______.
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(0)检验溶液中F上t+存在通常用KS小N溶液,取0量溶液与试管中,滴加KS小N溶液,溶液变红说明F上t+存在,
故答案为:KS小N溶液;溶液变红;
(人)铜与氯化铁反应生成氯化铁、氯化亚铁,反应离子方程式为:人F上t++小u=小u人++人F上人+,
故答案为:人F上t++小u=小u人++人F上人+.
(t)F上小l人中混有的F上小lt可加入还原剂除去,但不能引入新的杂质所以选用F上;反应的离子方程式为人F上t++F上=tF上人+,故答案为:F上;人F上t++F上=tF上人+;
(4)除去F上小lt中混有的F上小l人,可加入氧化剂,但不能引入新的杂质所以选用氯气;反应的离子方程式为小l人+人F上人+=人F上t+,故答案为:小l人;小l人+人F上人+=人F上t+;
故答案为:KS小N溶液;溶液变红;
(人)铜与氯化铁反应生成氯化铁、氯化亚铁,反应离子方程式为:人F上t++小u=小u人++人F上人+,
故答案为:人F上t++小u=小u人++人F上人+.
(t)F上小l人中混有的F上小lt可加入还原剂除去,但不能引入新的杂质所以选用F上;反应的离子方程式为人F上t++F上=tF上人+,故答案为:F上;人F上t++F上=tF上人+;
(4)除去F上小lt中混有的F上小l人,可加入氧化剂,但不能引入新的杂质所以选用氯气;反应的离子方程式为小l人+人F上人+=人F上t+,故答案为:小l人;小l人+人F上人+=人F上t+;
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