下列离子方程式书写正确的是（ ）A．氢氧化铝溶于氢氧化钠溶液：Al（OH）3+3OH-=AlO2-+3H2OB．AlCl3溶
下列离子方程式书写正确的是（）A．氢氧化铝溶于氢氧化钠溶液：Al（OH）3+3OH-=AlO2-+3H2OB．AlCl3溶液中加入足量的氨水：Al3++3OH-═Al（O...
下列离子方程式书写正确的是（ ）A．氢氧化铝溶于氢氧化钠溶液：Al（OH）3+3OH-=AlO2-+3H2OB．AlCl3溶液中加入足量的氨水：Al3++3OH-═Al（OH）3↓C．用FeCl3溶液腐蚀铜电路板：2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+D．铜片加入浓硝酸中：Cu+4H++2NO3-=Cu2++2H2O+2NO2↑
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A、氢氧化铝溶于氢氧化钠溶液反应生成偏铝酸钠和水，其离子反应为Al（OH）3+OH-=AlO2-+2H2O，故A错误；
B、AlCl3溶液中加入足量的氨水生成Al（OH）3和氯化铵，其离子反应为Al3++3NH3．H2O═Al（OH）3↓+3NH4+，故B错误；
C、用FeCl3溶液腐蚀铜电路板发模敏庆生氧化还原反应为Cu+2FeCl3═2FeCl2+CuCl2，氯离子实际不参加反应，则离子反应为2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+，拿李故C正确；
D、铜片加入浓硝酸中发生的氧化还原反应为Cu+4HNO3=Cu（NO3）2+2H2O+2NO2↑，有一半的硝酸根离子实际不参加反应，则离子反应为Cu+4H++2NO3-=Cu2++2H2O+2NO2↑旦握，故D正确；
故选CD．
B、AlCl3溶液中加入足量的氨水生成Al（OH）3和氯化铵，其离子反应为Al3++3NH3．H2O═Al（OH）3↓+3NH4+，故B错误；
C、用FeCl3溶液腐蚀铜电路板发模敏庆生氧化还原反应为Cu+2FeCl3═2FeCl2+CuCl2，氯离子实际不参加反应，则离子反应为2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+，拿李故C正确；
D、铜片加入浓硝酸中发生的氧化还原反应为Cu+4HNO3=Cu（NO3）2+2H2O+2NO2↑，有一半的硝酸根离子实际不参加反应，则离子反应为Cu+4H++2NO3-=Cu2++2H2O+2NO2↑旦握，故D正确；
故选CD．
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