Question

pvd是什么工艺？

Answer 1

PVD即物理气相沉积工艺。pvd是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术， 物理气相沉积是主要的表面处理技术之一。

pvd物理气相沉积技术基本原理：

(1)镀料的气化：即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。

(2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。

(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。

以上内容参考：百度百科-物理气相沉积

Answer 2

PVD（Physical Vapor Deposition）是一种物理气相沉积工艺，用于在材料表面形成薄膜。它涉及将材料以固态形式加热到高温，然后通过物理过程将其转化为气态，最后沉积在基底表面形成薄膜。
PVD工艺包括以下主要步骤：
1. 蒸发：将目标材料，通常是金属或合金，放置在加热源中，加热到足够高的温度，使其蒸发为气体。常用的加热源包括电子束蒸发炉、电弧蒸发炉等。蒸发过程中，材料会逐渐转变为气态。
2. 运输：蒸发的材料以气态形式通过真空环境或惰性气体的传输系统，运输到基底表面。在传输过程中，可以通过控制气氛压力和气体流动来调节薄膜的成分和质量。
3. 沉积：气态材料接触到基底表面后，由于表面的辐射冷却作用，会重新凝结为固态，形成薄膜层。沉积的薄膜可以具有不同的形貌、厚度和结构，取决于材料的选择和沉积条件的控制。
常见的PVD工艺包括物理气相沉积、磁控溅射、电子束蒸发等。PVD工艺被广泛应用于多个领域，如集成电路、光学涂层、装饰性涂层、磁性材料、金属薄膜等。它具有沉积速度快、工艺温度相对较低、可控性强、薄膜质量优良等优点，适用于制备各种功能性薄膜。