氧化还原滴定的主要依据是()。
1个回答
展开全部
氧化还原滴定的主要依据是()。
A.滴定过程中氢离子浓度发生变化
B.滴定过程中金属离子浓度发生变化
C.滴定过程中电极电位发生变化
D.滴定过程中有配位化合物生成
正确答案:C
A.滴定过程中氢离子浓度发生变化
B.滴定过程中金属离子浓度发生变化
C.滴定过程中电极电位发生变化
D.滴定过程中有配位化合物生成
正确答案:C
已赞过
已踩过<
评论
收起
你对这个回答的评价是?
国初科技(厦门)有限公司
2023-06-12 广告
2023-06-12 广告
氢氧化钫是一种稀有气体,极其不稳定,不易制备。然而,可以通过以下方法将氢氧化钫浓缩:1. 固体吸附法:将氢氧化钫固体吸附在多孔的固体材料表面上,如硅胶、氧化铝等。通过改变吸附条件(如温度、压力、接触时间等),可以控制氢氧化钫的浓度。2. 液...
点击进入详情页
本回答由国初科技(厦门)有限公司提供
推荐律师服务:
若未解决您的问题,请您详细描述您的问题,通过百度律临进行免费专业咨询