真空蒸镀与溅射镀膜优缺点 5
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蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
溅射镀膜组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。
蒸镀不适用于大规模生产，不适用于高熔点材料,如钼,钨。因为熔点高,蒸发太慢,而溅射的速度比蒸镀快很多。
溅射不适用于低硬度材料、非导电材料,如非金属材料。
溅射镀膜组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。
蒸镀不适用于大规模生产，不适用于高熔点材料,如钼,钨。因为熔点高,蒸发太慢,而溅射的速度比蒸镀快很多。
溅射不适用于低硬度材料、非导电材料,如非金属材料。
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北京泰科诺
2023-08-23 广告
真空蒸镀是一种在真空中通过加热和蒸发材料，然后将蒸气凝结在基材表面上的过程。这种技术常用于制造金属薄膜、金属电极和装饰面板等。具有蒸气压低的材料如高分子材料等不能进行真空蒸镀。其它的蒸发源方法还包括电子束蒸发和离子溅射。真空蒸镀具有高精度、...
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