因为杂质散射会降低载流子迁移率,而
MOS管导通时,载流子在衬底顶部、栅氧层下面的反型层中运动,所以需要低掺杂。”源极引线要引入两个层":1. 如果你指的是源区或漏区向沟道延伸出的、在栅极下面的低掺杂区(Halo),它们把
PN结变为P+ / P / N或N+ / N / P结构,这样可以减小耗尽层中的峰值
电场强度,从而减少进入栅氧层的热载流子,增加栅极氧化层的寿命。此外,这还可以减小源和漏PN结的宽度,降低段沟道效应。2. 如果你指的是源漏区的金属硅化物(Silicide),那是为了减小源或漏区的体电阻,这在深亚微米器件中比较重要。