硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHC

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:写出... 硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl 3 )还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下: 写出由纯SiHCl 3 制备高纯硅的化学反应方程式_______________________________。整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl 3 遇水剧烈反应生成H 2 SiO 3 、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式______________________________________________。H 2 还原SiHCl 3 过程中若混入O 2 ,可能引起的后果是____________________________________________。(2)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。 A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥 B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承 C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维 D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高 E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释。____________________________________________。 展开
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2014-11-07 · 超过70用户采纳过TA的回答
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(1)①SiHCl 3 +H 2 Si+3HCl
②SiHCl 3 +3H 2 O=H 2 SiO 3 ↓+3HCl↑+H 2 ↑氧气与氢气混合,可能引起爆炸;氧气可能会氧化SiHCl 3
(2)BC
(3)现象:试管中有白色胶状沉淀生成,并且有刺激性气体生成Na 2 SiO 3 和NH 4 Cl均能够水解,二者相互促进,Na 2 SiO 3 水解生成H 2 SiO 3 ,NH 4 Cl水解产生NH 3

(1)①根据原子守恒即质量守恒可以写出SiHCl 3 与H 2 反应的化学方程式。
②SiHCl 3 和H 2 O剧烈反应生成H 2 SiO 3 、HCl和另一种物质,分析它们化合价的变化可知, ,而Cl的化合价未发生变化,因此另一种元素即H元素的化合价必定降低,即另一种物质是H 2
(2)碳化硅、氮化硅为原子晶体,而水泥是硅酸盐产品,A错,B和C都正确。玻璃是一种玻璃态物质,无固定的熔点。盐酸不能与硅反应,而HCl在573 K以上的温度下可与硅发生反应。因此D、E都不正确。Na 2 SiO 3 和NH 4 Cl均能够水解,二者相互促进,Na 2 SiO 3 水解生成H 2 SiO 3 ,NH 4 Cl水解产生NH 3
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