小弟刚入半导体哪位大侠可以告诉我ETCH POLY的source generator&source match的工作原理和作用，
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这是所有ETCH机台的两个硬件，一个是产生power的，一个是调整power的，简单理解就是这样！
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追问
这是generator和match的关系，我想知道source generator和bias generator之间的关系以及两个各有什么作用！尤其是bias...
追答
power分为source和bias，这是两个RF power，一个用来产生plasma，一个用来给plasma加速，形成轰击效果！
source power 和bias power 都有generator和match！
这样说明白了吗？
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