请教有关PCB生产的一些知识!

1:coverlay和bondfilm分别是什么?有什么作用?其来料尺寸一般有哪两种?2:外层钻孔以什么为定位,镭射孔以什么为定位?多点补偿的作用是什么?3:Tendin... 1:coverlay和bondfilm分别是什么?有什么作用?其来料尺寸一般有哪两种?
2:外层钻孔以什么为定位,镭射孔以什么为定位?多点补偿的作用是什么?
3:Tending流程和patten流程是什么?
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wuxuehuaa
2013-04-05 · TA获得超过388个赞
知道小有建树答主
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您好,您的问题比较专业。
一、.Coverlay(须先冲切出的穿露孔),
BondFilm是安美特用于提高内层接合的简单、经济型工艺。从化学工艺角度来看,内层会经受一个微粗化和处理过程,用来在铜表面形成一个有机金属层。通常来说,BondFilm工艺会将铜微蚀刻至1.2 到1.5 µm的厚度,同时将铜表面(200 - 300 A)转化成期望的有机-金属结构。通过这个工艺后,可见的结果便是形成一个棕色的均匀镀层。虽然铜的蚀刻会随着浸置时间而不断进行,但是实际上BondFilm粘附层的生长是受自我限制的,在该层的形成和溶解达到平衡后,就会达到了一个最大厚度。
BondFilm 工艺有三步组成,可以通过浸置或者是传送带化模式完成生产。
碱性清洁 –正确的清理铜表面是形成该表面一个必须的先决条件。BondFilm Cleaner ALK是一个高效,简单的碱性清洁剂,用于从内层表面除去淤泥和污染物。这个步骤不仅仅是除去指纹和光阻材料残余。
活化-清洁步骤之后,BondFilm Activator对铜进行预处理用来形成一个合适的表面条件,这是其形成粘附层的必要条件。除了均匀一致的活化铜表面,这一步也保护了BondFilm溶液因"带入"而产生的污染。
BondFilm –活化后的铜表面然后在BondFilm 溶液中进行处理来形成有机-金属镀层。这一部分工艺维护简单,有高度的操作灵活性。
通常整个BondFilm 工艺,包括淋洗和干燥,在传送带化(水平)模式中,都只要求大约三分钟的时间来进行处理。
特色和优点
稳定的接合促进性能
载铜量高 (对BondFilm HC来说,一般为28 g/l和40 – 45 g/l)
简单可靠,工艺温度低
操作窗口宽
是传送带体系的理想选择
极大减少"粉红圈"和"楔形缺口"的形成
对激光直接钻孔进行优化
产率高,所以内层板加工的成本更低
化学品和设备专门针对安美特水平式生产体系进行完美匹配

二、外层钻孔 以内层定位孔为基准坐标钻出外层相对位置, 镭射孔指的是沉空吗?你所说的补偿是整个PCB板都补偿吗?加大补偿是为了弥补蚀刻制程的不足,以达到客户的要求。
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亲再好好看看问题回答完整点好吗?急求答案,谢谢!
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我只了解这么多了。Sorry 希望能够帮助您,其他的就让别人帮忙完善了。
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