怎样让realflow中的水流沿某条曲线运动?
我用realflow2012和maya2009做了两个小测试。图中截屏1为rf的效果图，其参数设置如截屏2所示：创建一个DSpline，施力于Circle02发射出来的particles。原本DSpline是制造漩涡的一个Daemon，但此处可在其参数上设置Vortex strength值为0，就是取消形成漩涡流的力度；Axial strength值给小一点让particles不至于受太大吸附力导致速度太大偏离预设的轨道；Radial strength值设置大一点，让其施力范围能覆盖到运动的particles。DSpline创建时默认的CP线圈只有3个，如果要增加就点击Insert CP，在点击Edit后可对每一个CP线圈进行各自的参数设置，对每个CP线圈设置@CP vortex值为0（取消形成漩涡流的力度），在Edit下可以选中各个CP线圈的中心点然后移动到想要的位置，注意在移动的过程中，让路径曲线大角度的转弯的地方要放置多个CP线圈，否则particles容易逃离轨道。
在截屏3里面，我用maya做了相同测试。方法很简单，就是创建一条CV曲线，选中该曲线然后在Dynamics->Effects->点击Create Curve Flow命令。由图可以看出，在maya里制作简单控制效果比Realflow好（当然RF可能还有一些其它较好的方法）。不凑巧我给你做测试所用的电脑是一台临时使用的设备，我试着安装RF for maya的插件，但因为这个maya2009是绿色非安装版本的，RF for maya的通用插件安装不了。不然的话你可以在maya里面把发射的particles的数量等参数设置好然后解算并通过插件导出particles的bin序列文件。然后在RF里面创建Binary发射器，将之前备份的bin序列文件导入Binary里面。这样你在maya里面创建的particles同样可以在RF场景里面和其它元素产生效应。
其实最有效的办法就是通过脚本控制particles的运行方式。我本身就是程序员出身，脚本语言对我来说根本不是问题。但我还没有去试过。
讲的的很详细，我也试了，就是在转弯的时候粒子总是堵在那，是不是还要调什么数值呢？
没有什么特别要调整的地方，你只要明白原理就知道怎么调整。一个线圈就相当于一个磁场，对粒子有吸引力。如果粒子堵塞，无非就是单位时间里通过线圈的粒子太多，解决方法有两个一是减少单位时间里发射粒子的数量，可以在发射器Particles属性栏里面将Resolution值减小，我设置为0.2（默认为1）。但是这样可能就达不到自己希望的大流量的效果；另一种方法就是增加粒子的初始速度，即在Circle属性栏里将Speed值增大（默认为2），这样加快行径速度，单位时间里通过的粒子数量自然增大。但是这样由于惯性，粒子又容易偏离预定的轨道。这时又得去做一些降低弯角的弧度、在弯角处多增加几个线圈、将线圈的吸引力和吸引范围增大等工作。所以你必须要在粒子的流量、初始速度、弯角弧度等一系列参数之间作平衡。但是还是那句话无论你怎么调整所得的效果都不是很完美，为什么不试试我之前说的第二种方法在maya里面做，在导出来放置到realflow里面，这样又快又好、无须做过多的参数调整。
