下列反应离子方程式正确的是 A.FeCl 3 溶液刻蚀铜制的印刷电路板:Fe 3+ +Cu = Fe 2+ + Cu 2+

下列反应离子方程式正确的是A.FeCl3溶液刻蚀铜制的印刷电路板:Fe3++Cu=Fe2++Cu2+B.硅酸钠溶液和稀硫酸混合:Na2SiO3+2H+=H2SiO3↓+2... 下列反应离子方程式正确的是 A.FeCl 3 溶液刻蚀铜制的印刷电路板:Fe 3+ +Cu = Fe 2+ + Cu 2+ B.硅酸钠溶液和稀硫酸混合:Na 2 SiO 3 +2H + = H 2 SiO 3 ↓+2Na + C.Ba(OH) 2 溶液与稀硫酸反应:Ba 2+ +OH - +H + +SO 4 2 - =BaSO 4 ↓+H 2 O D.向氯化铝溶液中滴加过量氨水:Al 3 + +3NH 3 ·H 2 O=Al(OH) 3 ↓+3NH 4 + 展开
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真情如浅深129
2014-08-30 · TA获得超过132个赞
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D


试题分析:A、电子得失不守恒,应该是2Fe 3+ +Cu = 2Fe 2+ + Cu 2+ ,A不正确;B、硅酸钠是应该用离子符号表示,正确的是SiO 3 2 +2H =H 2 SiO 3 ↓,B不正确;C、不符合定比组分比,应该是Ba 2+ +2OH +2H + +SO 4 2 =BaSO 4 ↓+2H 2 O,C不正确;D、氨水是弱碱,不能溶解氢氧化铝,D正确,答案选D。
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