
三极管电流流向问题
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这是饱和状态的情况,三极管电流分配依旧是基极流向发射极、集电极流向发射极。尽管集电极电位低于基极,但仍未达到导通值,而且也不会产生b-c导通的情况,因为有饱和压降Vces的存在,b-c间不可能发生正向导通的情形。
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追问
这种情况下集电极n区少子向发射区移动的电流是不是依然存在,而且组成了集电极电流的一部分
追答
是的,毕竟集电区电位始终高于发射区,而少子是受集电区正向电压驱动的 ,所以始终存在。

2024-12-31 广告
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本回答由铭普光磁提供
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呵呵,这个问题主要有两个原因:
1.
发射区是重掺杂,其掺杂浓度远远高于基区的掺杂浓度,所以发射结正偏时,发射区向基区注入的电子数量是巨大的
2.
(非常关键的一点)基区的宽度足够小
,远远小于非平衡少子(电子)在基区的扩散长度。(而这恰恰是我们希望的,通常在制作双极型晶体管的时候,就是要把基区的宽度做小)。基区宽度小,意味着到达基区的非平衡少子
需要
渡越的距离就越短,就更容易到达集电区的边缘。(可以理解为,还没来得及复合,就到达集电区边缘了)
如果把基区宽度做得很宽很宽,远远大于非平衡少子(电子)在基区的扩散长度,
那这就造成
发射区注入基区的电子全部在基区被复合掉,无法到达集电结的边缘,这些电子全部成为基极电流的贡献了。
而集电结是反偏,只有很小很小的PN结反向饱和电流。
事实上,这也就不是双极型晶体管了,
顶多就算是
两个背靠背反向串联的PN结,
起不到电流放大的作用。
希望我的回答对你有帮助,全是一字一字敲上去的,呵呵,望采纳
1.
发射区是重掺杂,其掺杂浓度远远高于基区的掺杂浓度,所以发射结正偏时,发射区向基区注入的电子数量是巨大的
2.
(非常关键的一点)基区的宽度足够小
,远远小于非平衡少子(电子)在基区的扩散长度。(而这恰恰是我们希望的,通常在制作双极型晶体管的时候,就是要把基区的宽度做小)。基区宽度小,意味着到达基区的非平衡少子
需要
渡越的距离就越短,就更容易到达集电区的边缘。(可以理解为,还没来得及复合,就到达集电区边缘了)
如果把基区宽度做得很宽很宽,远远大于非平衡少子(电子)在基区的扩散长度,
那这就造成
发射区注入基区的电子全部在基区被复合掉,无法到达集电结的边缘,这些电子全部成为基极电流的贡献了。
而集电结是反偏,只有很小很小的PN结反向饱和电流。
事实上,这也就不是双极型晶体管了,
顶多就算是
两个背靠背反向串联的PN结,
起不到电流放大的作用。
希望我的回答对你有帮助,全是一字一字敲上去的,呵呵,望采纳
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因为基区非常薄,掺杂浓度低(也就是说多数载流子很少),集电极大量电子涌入,只有极少一部分才能复合掉。
上面两位的回答都很专业,希望我的回答你能看懂。
上面两位的回答都很专业,希望我的回答你能看懂。
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三极管和场效应管工作原理3D动画,直观的了解其电流走向
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