单晶硅是信息产业中重要的基础材料,通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁,铝,硼,磷等杂质),

单晶硅是信息产业中重要的基础材料,通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁,铝,硼,磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500℃),四氯化硅经提纯后... 单晶硅是信息产业中重要的基础材料,通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁,铝,硼,磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅,以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图.相关信息如下:①四氯化硅遇水极易水解;②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;③有关物质的物理常数见下表:物质SiCl4BCl3AlCl3FeCl3PCl5沸点/℃57.712.8-315-熔点/℃-70.0-107.2---升华温度/℃--180300162请回答下列问题:(1)写出装置A中发生反应的离子方程式______.(2)装置A中g管的作用是______,装置B中的试剂是______,装置C中的试剂是______,装置E中h瓶需要冷却的理由是______.(3)干燥管F的作用______. 展开
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小纸爱浔子0144
2014-12-19 · 超过52用户采纳过TA的回答
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由制备四氯化硅的实验流程可知,A中发生二氧化锰与浓盐酸的反应生成氯气,B中饱和实验水除去HCl,C装置中浓硫酸干燥氯气,D中发生Si与氯气的反应生成四氯化硅,由信息可知,四氯化硅的沸点低,则E装置冷却可收集四氯化硅,F可防止空气中的水进入,最后处理含氯气的尾气,
(1)装置A是氯气发生装置,A中的离子方程式为MnO2+4H++2Cl-
  △  
.
 
Mn2++Cl2↑+2H2O,故答案为:MnO2+4H++2Cl-
  △  
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Mn2++Cl2↑+2H2O;
(2)浓盐酸有挥发性,故分液漏斗要加盖,加盖后如没有g管,则盐酸就不易流下去,g管的作用是平衡压强,使液体顺利流出并防止漏气;制得的氯气中含有氯化氢和水,装置B用饱和食盐水除去氯化氢,装置C用浓硫酸吸水;产物SiCl4沸点低,需要冷凝收集,
故答案为:平衡压强,使液体顺利流出并防止漏气;饱和食盐水;浓硫酸;产物SiCl4沸点低,需要冷凝收集;
(3)四氯化碳遇水极易水解,则干燥管F的作用为防止空气中的水蒸气进入E,故答案为:防止空气中的水蒸气进入E.
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