Question

请教什么是OPC？光学临近矫正

Answer 1

简单来讲，按照摩尔定律，芯片特征尺寸不断缩小，达到0.13um及其以下工艺节点，使用的光刻波长（193nm）已经远大于CD，这使得衍射、干涉等所谓的光学临近效应形成致命问题。OPC是通过Mask的修正，最大可能的解决这些Photo后的图形Variation。
与OPC一起使用的方法还有移相掩膜PSM、离轴曝光技术、亚分辨率辅助图形技术。
详细的阐述可以查阅下paper。
至于前途，我没发言权呵呵，俺也是小菜鸟一个。