杨氏双缝干涉实验中,光源上下移动时,干涉条纹如何变化
1个回答
2022-09-28 · 百度认证:北京惠企网络技术有限公司官方账号
关注
展开全部
杨氏双缝干涉实验中,光源上下移动时,干涉条纹下上移动(移动方向与前者的相反)。
干扰必须第一相干光绕过障碍物(事薯乱辩实上,衍射),然后相互叠加,形成了光与暗的条纹。
双缝垂直,水平方向上,体积小,容易绕过陪判去的光(衍射),位于左,右两侧;每个接缝,而垂直方向上的大小,是不容易的光绕过去,所以没有光上下。最终,每一个垂直缝左右两侧的光彼此叠加,形成明暗相间条纹,性质和平行的接缝。
扩展资料:
假若光束是由经典粒子组成,将光束照射于一条狭缝,通过狭缝后,冲击于探测屏,则在探射屏应该会观察到对应于狭缝尺寸与形状的图样。可是,假设实际进行这单缝实验,探测屏会显示出衍射图样,光束会被展开,狭缝越狭窄,则展开角度越大。在探测屏会显示出,在中央区域有一块比较明亮的光带,旁边衬托著数缺两块比较暗淡的光带。
参考资料来源:百度百科-双缝实验
已赞过
已踩过<
评论
收起
你对这个回答的评价是?
系科仪器
2024-08-02 广告
2024-08-02 广告
科仪器致力于为微纳薄膜领域提供精益级测量及控制仪器,包括各种光谱椭偏、激光椭偏、反射式光谱等,从性能参数、使用体验、价格、产品可靠性及工艺拓展性等多个维度综合考量,助客户提高研发和生产效率,以及带给客户更好的使用体验。...
点击进入详情页
本回答由系科仪器提供
推荐律师服务:
若未解决您的问题,请您详细描述您的问题,通过百度律临进行免费专业咨询