Question

硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（S

硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式______．②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式______；H2还原SiHCl3过程中若混O2，可能引起的后果是______．（2）下列有关硅材料的说法正确的是______（填字母）．A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡．写出实验现象并给予解释______．

Answer 1

（1）①氢气和纯SiHCl₃反应生成高纯硅和氯化氢：SiHCl₃+H₂

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Si+3HCl，故答案为：SiHCl₃+H₂

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Si+3HCl；
②SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和氢气：3SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃+H₂↑+3HCl，氢气遇氧气易爆炸，故答案为：3SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃+H₂↑+3HCl；高温下，H₂遇O₂发生爆炸；
（2）A．SiC和Si₃N₄均为原子晶体，熔点高，性质稳定，故A正确；
B．SiC和Si₃N₄均为原子晶体，硬度大，熔点高，性质稳定，故B正确；
C．普通玻璃的主要成分为Na₂SiO₃和CaSiO₃，它是以石英砂（SiO₂）、石灰石（CaCO₃）和纯碱（Na₂CO₃）为主要原料反应制成的，熔点很高，故C正确；
D．常温下，Si只能与唯一一种酸HF反应，不与HCl反应，故D错误．
故答案为：ABC；
（3）SiO₃^2-与NH₄⁺发生双水解反应生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，方程式：SiO₃^2-+2NH₄⁺+2H₂O═2NH₃?H₂O+H₂SiO₃↓，
故答案为：生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO₃^2-与NH₄⁺发生双水解反应，SiO₃^2-+2NH₄⁺+2H₂O═2NH₃?H₂O+H₂SiO₃↓．