静态工作点对放大电路性能的影响
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静态工作点Q的设置不当会影响放大电路的性能。如果点Q过高,当I按照正弦规律变化时,Q'进入饱和区,导致I和Uce的波形和IP(或u;)。不匹配的波形,输出电压u0为(uce)平顶畸变的负半周,称为饱和畸变。
如果Q点过低,则Q”进入截止区,输出电压u0正半周出现平顶畸变,称为截止畸变。饱和畸变和截止畸变统称为非线性畸变。
温度对Q点的影响:当晶体管的环境温度升高时,晶体管中载流子的运动增强,因此放大电路中的参数也随之改变。
扩展资料:
静态工作点功能:确定放大电路电压、电流的静态值;选择合适的静态工作点可以防止电路的非线性失真。良好的放大是有保证的。
1、静工作点的确定:
静态工作点是晶体管直流负载线与输出特性曲线的交点。静态操作点根据IB沿直流负载线上下移动。
根据公式Uce=Ucc-rcic,在Ic/Ucc图上画出直流负载线,然后在IB条件下画出晶体管输出特性曲线。交点为静态工作点。
2、静态工作点的必要性:
为了使晶体管在放大状态下工作,有必要使晶体管的集电极结反偏置、正偏置。我们需要在两极之间放置合适的偏置电路,也就是为晶体管设置合适的静态工作点。而所谓静态工作点,就是在没有输入信号的情况下,由直流电源单独对三极管上的电压或电流,就有一个基电流IB。
集电极电流IC,发射极结电压UBE,和电子管电压降UCE,一共是四个物理量,而我们在实际应用中,往往记住的发射结电压已知,是0.7V的硅管,0.2V的锗管,其实这是一个近似值。
这是因为晶体管的发射结相当于一个二极管,为了使输入信号全部变为,只有输入电压大于其开启电压,一般约为0.7硅管,锗管为0.2V。
而在实践中,被放大的信号通常很小,如果直接输入晶体管的基础,恐怕不足以使三极管导通,这就需要我们前进基地潜在的抬高,使三极管的发射极结传导状态(发射结部分),输入小信号的弱到三极管的内部。
为了使晶体管正确地放大信号,我们必须为它设置一个合适的静态工作点。这对于设置输入的静态工作点是必要的。
参考资料:静态工作点_百度百科
如果Q点过低,则Q”进入截止区,输出电压u0正半周出现平顶畸变,称为截止畸变。饱和畸变和截止畸变统称为非线性畸变。
温度对Q点的影响:当晶体管的环境温度升高时,晶体管中载流子的运动增强,因此放大电路中的参数也随之改变。
扩展资料:
静态工作点功能:确定放大电路电压、电流的静态值;选择合适的静态工作点可以防止电路的非线性失真。良好的放大是有保证的。
1、静工作点的确定:
静态工作点是晶体管直流负载线与输出特性曲线的交点。静态操作点根据IB沿直流负载线上下移动。
根据公式Uce=Ucc-rcic,在Ic/Ucc图上画出直流负载线,然后在IB条件下画出晶体管输出特性曲线。交点为静态工作点。
2、静态工作点的必要性:
为了使晶体管在放大状态下工作,有必要使晶体管的集电极结反偏置、正偏置。我们需要在两极之间放置合适的偏置电路,也就是为晶体管设置合适的静态工作点。而所谓静态工作点,就是在没有输入信号的情况下,由直流电源单独对三极管上的电压或电流,就有一个基电流IB。
集电极电流IC,发射极结电压UBE,和电子管电压降UCE,一共是四个物理量,而我们在实际应用中,往往记住的发射结电压已知,是0.7V的硅管,0.2V的锗管,其实这是一个近似值。
这是因为晶体管的发射结相当于一个二极管,为了使输入信号全部变为,只有输入电压大于其开启电压,一般约为0.7硅管,锗管为0.2V。
而在实践中,被放大的信号通常很小,如果直接输入晶体管的基础,恐怕不足以使三极管导通,这就需要我们前进基地潜在的抬高,使三极管的发射极结传导状态(发射结部分),输入小信号的弱到三极管的内部。
为了使晶体管正确地放大信号,我们必须为它设置一个合适的静态工作点。这对于设置输入的静态工作点是必要的。
参考资料:静态工作点_百度百科
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放大电路中影响静态工作点的,首先是负反馈,其电流或电压量的大小,直接影响静态工作点;其次是放大管的热稳定性,即温度系数,三极管是电流放大管,因此,电流大小,会直接影响三极管的温度高低,致使工作点产生“漂移”。再次是放大倍数“贝塔”特性族的选定,假如选在“过荷区”,就非常容易影响静态电流,使其恶性循环,而偏高工作点。
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静态工作点除了影响是否失真,还影响几乎所有的动态参数,如电压放大倍数,输入电阻,输出电阻,频率特性等
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本实验先通过改变集电极电阻Rc,从输出特性曲线上看,即改变直流负载线的斜率,对输出波形的影响。以及改变基极电阻Rb,从输出特性曲线上看,即Q点在直流负载线上的位置,对输出波形的影响。
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