CMOS 电路中的完整器件通常并不是做在体硅上,而是做在一层很薄(2~4 (m)的轻掺杂外延层上,目的是( A、B、D )。
A. 避免闩锁效应 B. 提供控制杂质浓度分布的方法。
C. 形成SOI隔离结构 D. 使器件具有较好介质完整性与较小漏电流。
所谓的漏极,就相当于漏出电子的开口;而中间的栅极,就像控制开关一样:一方面通过控制在栅极施加的高电平电压,使源漏之间出现沟道,电子通过沟道从源极流向漏极,电流的方向也就是从漏到源了,从而进行导电,也就是“开关”打开的的时候(由于是形成的N沟道,也就是电子导电,因此成为N型CMOS)。