pvd镀膜是怎样的工艺
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PVD是Physical Vapor Deposition的缩写。它是指在真空条件下将材料物理沉积在待镀工件上的薄膜制备技术。
PVD抛光镀膜技术(物理气相沉积)是相对于CVD(化学气相沉积)来说的。它是一种蒸发真空镀膜技术,由蒸发、运输、反应、沉积四个物理反应完成材料镀膜的过程,可以说是一种替代电镀的过程。PVD抛光镀膜技术(物理气相沉积)承袭了化学气相沉积提高表面性能的优点,并克服了化学气相沉积高温易使材料变形等缺点。
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