nmos和pmos晶体管的阈值电压分别是多少?估计值
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nMOS:Vth=0.7V ,pMOS:Vth=-0.8V。
MOSFET阈值电压V是金属栅下面的半导体表面出现强反型、从而出现导电沟道时所需加的栅源电压。由于刚出现强反型时,表面沟道中的导电电子很少,反型层的导电能力较弱,因此,漏电流也比较小。
在实际应用中往往规定漏电流达到某一值( 如50μA)时的栅源电压为阈值电压。从使用角度讲,希望阈值电压Vm小一些好。阈值电压是决定MOSFET能否导通的临界栅源电压,因此,它是MOSFET的非常重要参数。
扩展资料:
对于理想的增强型MOSFET(即系统中不含有任何电荷状态,在栅电压Vgs = 0时,半导体表面的能带为平带状态)。
阈值电压可给出为VT = ( SiO2层上的电压Vi ) + 2ψb = -[2εεo q Na ( 2ψb )] / Ci + 2ψb ,式中Vi ≈ (耗尽层电荷Qb) / Ci,Qb =-( 2εεo q Na [ 2ψb ] ),Ci是单位面积的SiO2电容,ψb是半导体的Fermi势(等于本征Fermi能级Ei与Ef之差)。
参考资料:百度百科-晶体管阈值电压
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NMOS晶体管的工作原理: 在一块掺杂浓度较低的P型硅衬底(提供大量可以动空穴)上,制作两个高掺杂浓度的N+区(N+区域中有大量为电流流动提供自由电子的电子源),并用金属铝引出两个电极,分别作漏极D和源极S。然后在半导体表面覆盖一层很薄的二...
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不同工艺下的MOS管的阈值电压Vth是不同的,而且即使是同样的工艺,由于存在衬偏效应、短沟道效应在不同的工作条件下的阈值电压也是有区别的。
目前的工艺水平一般都是在几百毫伏,例如TSMC180nm的工艺,NMOS的Vth是475mV,PMOS的Vth是449mV。
具体的你可以自己仿一下,或者看一下具体工艺的说明文档。
目前的工艺水平一般都是在几百毫伏,例如TSMC180nm的工艺,NMOS的Vth是475mV,PMOS的Vth是449mV。
具体的你可以自己仿一下,或者看一下具体工艺的说明文档。
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nMOS:Vth=0.7V ,pMOS:Vth=-0.8V
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