Question

PVD镀膜常用的工艺类型有哪些？

Answer 1

PVD（Physical Vapor Deposition）是一种常用的薄膜镀覆技术，其常见的工艺类型包括：
1. 磁控溅射（Magnetron Sputtering）：这是一种广泛应用的PVD工艺，通过在真空环境下使用磁场激发离子，使材料表面的原子或分子获得足够的能量，从而从靶材上释放出来并沉积到基板上。
2. 电弧离子镀（Arc Ion Plating）：该工艺使用电弧放电产生高温、高压等离子体，将离子沉积在基板上。这种方法具有较高的镀层质量和较高的沉积速率。
3. 滚动式镀膜（Roll-to-Roll Coating）：这是一种连续的PVD工艺，适合在柔性基材上进行大面积镀膜。基材经过卷曲系统，与离子束相遇并沉积。
4. 蒸发镀膜（Evaporation Coating）：这是一种将材料升华并沉积到基板上的PVD工艺。材料加热至升华温度，形成气态，并在基板上冷凝成薄膜。
5. 离子束辅助沉积（Ion Beam Assisted Deposition）：该工艺使用离子束对基板进行表面清洁，并促进材料的沉积和结晶，提高镀层的致密性和附着力。
这些PVD工艺类型在不同应用领域中具有各自的优势和适用性。选择合适的工艺取决于需要的镀膜材料、目标膜层厚度、沉积速率和材料特性等因素。

Answer 2

溅射镀膜
溅射镀膜是一种 PVD镀膜工艺，其中金属或陶瓷等靶材受到高能离子的轰击。这导致靶材料的原子从表面喷射或溅射，然后沉积到基板上。溅射镀膜中使用的离子可以是正离子，也可以是负离子，所用离子的类型会影响涂层的性能。
热蒸发
热蒸发是一种 PVD 涂层工艺，其中源材料被加热直至蒸发。然后蒸气沉积到基材上，形成薄而均匀的层。该工艺通常用于对离子轰击敏感的涂层材料或需要对涂层过程进行高度控制的应用。
电子束蒸发
电子束蒸发是一种 PVD涂层工艺，其中使用聚焦电子束来加热和蒸发源材料。然后蒸气沉积到基材上，形成涂层。该工艺可以更精确、更受控地沉积涂层材料，这使其适用于需要高精度的应用。
离子镀
离子镀是一种PVD镀膜工艺，其中将含有镀膜材料原子的气体引入真空室。气体被电离，然后离子被加速并导向基材，在那里它们沉积形成涂层。与其他 PVD 工艺相比，该工艺可实现更均匀一致的涂层，因此适用于需要高度均匀性的应用。