Question

中国芯片研究有什么了重大突破？华为是否迎来转机？

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Answer 1

中国的芯片研究前一阵子取得了较大突破，中芯国际据说采用流片曝光技术达到了7纳米精度，没有多余的信息，没有说就是说达到了7纳米的精度，我们从这样一个简短的信息里面能够得到一些有用的信息。

第一就是这个计数确实取得了一定突破，原来我们凭借光刻机去制造的这个芯片，最高的刑度，应该也就是到14纳米左右，跟我们日常的手机所使用的78甚至说是五国的芯片比起来差太多了。自然没有办法用自己的这个光刻机来制造，因为进度不够，所以我们的芯片才被国外卡着脖子，但这一次他能够达到这样的精度，就证明了这个技术已经从实验室逐渐成型了，虽然距离大规模的普及还要有相当长一段时间，但起码是个好的信号。

第二就是达到了所谓的技术突破和具备了生产制造能力是两回事，现在大家都逐渐明白这个问题了，因为原来华为就具备芯片的自我研发能力，他自己研发的芯片到了7~了5的精度都没问题，但是造不出来，这就是个很大的问题，现在华为有没有自我的研发能力当然有的，但是它没有大规模的制造能力，所以说这个所谓的达到了其他米精度的芯片，大家也都没有那么乐观，你不至于产生太大的轰动，因为达到了精度和实际达到了那个程度是两回事，它并不是借助光刻机制造出来的，就意味着它不能大规模的生产，距离量产还有相当久的距离。

可以说华为逐渐迎来的软件，因为在芯片这方面，我们确实一直被国外所限制，在这次的新片冬供面前，多方利益都认识到了自己的利益，要想获得保证必须掌握核心的技术，所以加大投资在研发这方面，这个7纳米精度的芯片能够在实验室里面制造出来，这是个好的信号，意味着未来我们不断做更多方面的研究，我们完全可以实现技术的自主。

Answer 2

中国芯片突破了5微米的研究技术，这对手机芯片又进了一步。但华为依然迎不来转机，因为国外正在研究三微米以下芯片，国产芯片在未来还有很长的路要走，技术依然处于艰难时期。

Answer 3

赶紧生产芯片，性能差点没关系，先解决从无到有的需求。

Answer 4

有消息称，中科院已经成功开发新型5nm超高精度激光光刻加工的方法，不仅如此，这种技术使用的设备都是拥有完全知识产权的设备。当然，有方法总比没方法好，有了这个方法，我们就能朝着这方面努力，争取早日实现运用，帮助华为乃至“中国芯”，早日渡过难关。