下列反应离子方程式正确的是(  )A.FeCl3 溶液刻蚀铜制的印刷电路板:Fe3++Cu=Fe2++Cu2+B.硅酸钠溶

下列反应离子方程式正确的是()A.FeCl3溶液刻蚀铜制的印刷电路板:Fe3++Cu=Fe2++Cu2+B.硅酸钠溶液和稀硫酸混合:Na2SiO3+2H+=H2SiO3↓... 下列反应离子方程式正确的是(  )A.FeCl3 溶液刻蚀铜制的印刷电路板:Fe3++Cu=Fe2++Cu2+B.硅酸钠溶液和稀硫酸混合:Na2SiO3+2H+=H2SiO3↓+2Na+C.Ba(OH)2 溶液与稀硫酸反应:Ba2++OH-+H++SO42-=BaSO4↓+H2OD.向氯化铝溶液中滴加过量氨水:Al3++3NH3?H2O=Al(OH)3↓+3NH4+ 展开
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萌小殇9945
2015-01-21 · TA获得超过209个赞
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A.FeCl3 溶液缺伍刻蚀铜制的印刷电路板的离子反应为2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+,故A错误;
B.硅酸钠溶液和稀硫指丛酸混合的离子反应为SiO32-+2H+=H2SiO3↓,故B错误;
C.Ba(OH)2 溶液与稀硫酸反应的离子反应为Ba2++2OH-+2H++SO42-=BaSO4↓+2H2O,故C错误;
D.向氯化铝溶液中滴加过量氨水的离子反唯扮樱应为Al3++3NH3?H2O=Al(OH)3↓+3NH4+,故D正确;
故选D.
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