Question

在溅射镀膜中影响溅射速率的因素有哪些？

Answer 1

沉积速率是指从靶材上溅射出来的材料，在单位时间内沉积到基片上的膜层厚度，该速率与溅射率成正比。有下列关系式：
qt=CIh
式中：
qt—表示沉积速率；
C—表征溅射装置特性的常数；
I—表示离子流；
h—表示溅射速率。
由此式可见，当溅射装置一定（即C为确定值，这个是溅射设备的固定参数，在设计之初，一般由靶基距等关键参数决定），又选定了工作气体后，提高沉积速率的最好办法是提高离子流I。
磁控溅射法成膜速率正比于靶功率。决定沉积速率的因素有：刻蚀区的功率密度，刻蚀区面积，靶—基距，靶材，气体压强，气体成分等。上面列出的几个参数大致上是按重要性排列的，但其中有些参数之间有相互影响，如压强、功率密度及刻蚀区面积等。此外靶的热学性能与机械特性等也是限制最大溅射速率的因素。

Answer 2

溅射比蒸镀和工作真空低一个数量级,所以膜层的含气量要比蒸镀高。

蒸镀不适用于高溶点材料,如钼,钨。因为溶点高,蒸发太慢,而溅射的速度比蒸镀快很多。

溅射不适用于低硬度材料,如非金属材料。

溅射不适用于非导电材料。

蒸镀不能控制厚度,而溅射可以用时间控制厚度。

蒸镀不适应大规模的生产。

蒸镀的电子动能比溅射小很多,虽然含气量少,但是膜层易脱落。

溅射的膜均匀,蒸镀的膜中心点厚,四周薄。

在国内蒸镀工艺比溅射工艺成熟。

Answer 3

溅射比蒸镀和工作真空低一个数量级,所以膜层的含气量要比蒸镀高。蒸镀不适用于高溶点材料,如钼,钨。因为溶点高,蒸发太慢,而溅射的速度比蒸镀快很多。

Answer 4

磁控溅射镀膜技术是物理气相沉积法(PVD)的一种,就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术.具有设备结构简单